高壓原位拉曼光譜動態分析系統

技術參數

開合方式：卡環式

密封方式：V 型線性密封

換熱方式：電加熱

加熱功率 ：25ML&50ML=500W,100ML=800W,250ML&500ML=1000W（注 1）

設計溫度 ：350℃

使用溫度：50~300℃

控溫精度 ：±1℃ (無強放熱吸熱情況下)

設計壓力 ：150BAR

爆破壓力 ：125BAR

使用壓力 ：≤100BAR (注 2)

標準材質 ：316L (注 3)

攪拌速度 ：150~1500r/min (注 4)

操作系統 ：YZ-MRCTR

注1：不同容積加熱功率不同

注2：使用負壓時應特殊說明，另裝負壓表和更換負壓傳感器

注3：有哈氏合金，蒙乃爾合金，鋯材，因科鎳,鈦材等特殊材質可訂制

注4：磁耦合攪拌 150~1000r/min

控制系統

操作界面：7英寸真彩色觸控屏，模塊化顯示，用戶自定義顯示模塊，自定模塊的開啟和關閉，多級菜單，多窗口分級管理設置

溫控模塊：PID 智能溫控，支持自整定，雙控溫模式，主控釜內溫度，輔控加熱爐溫度，

攪拌模塊：PWM 精準調速，可正反雙向攪拌，最高可達 1500r/min

定時模塊：具有雙定時模式，保溫定時和啟動定時

壓力模塊：預裝壓力傳感器，英國進口品牌，精度高達 0.25%，316L材質，壓力數顯，帶有超壓報警聯鎖，自定義上限壓力

安全聯鎖：超溫超壓報警，停止工作，切斷加熱，用戶可自定義上限溫度和壓力

注1：無強放熱吸熱情況下

注2：磁耦合攪拌不支持正反轉功能，磁耦合攪拌轉速上限 1000r/min,

建議實際使用上限 600r/min,轉速越高磁耦合使用壽命越低

ReactRaman針對原位監控進行了優化，提供精確靈敏的光譜，可通過One Click Analytics™輕松轉換為結果。使用集成的關聯表，用戶可準確分析反應，將它們與化學反應直接關聯，獲得所需的反應知識。

集成的平臺

高壓原位拉曼光譜動態分析系統